Spectroscopy for identification of plasma sources for lithography and water window imaging

Gerry O'Sullivan, Padraig Dunne, Takeshi Higashiguchi, Bowen Li, Ragava Lokasani, Elaine Long, Hayato Ohashi, Fergal O'Reilly, Paul Sheridan, John Sheil, Emma Sokell, Chihiro Suzuki, Tao Wu

研究成果: ジャーナルへの寄稿会議記事査読

抄録

We report on the result of an extensive study of the extreme ultraviolet (EUV) and soft x-ray spectra from laser produced plasmas of a number of medium and high Z metals undertaken to identify potential sources for use with multilayer mirrors as sources for lithography and water window imaging and cell tomography.

本文言語英語
論文番号092037
ジャーナルJournal of Physics: Conference Series
635
9
DOI
出版ステータス出版済み - 2015/09/07
イベント29th International Conference on Photonic, Electronic and Atomic Collisions, ICPEAC 2015 - Toledo, スペイン
継続期間: 2015/07/222015/07/28

ASJC Scopus 主題領域

  • 物理学および天文学一般

フィンガープリント

「Spectroscopy for identification of plasma sources for lithography and water window imaging」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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