Application of ion beam and electron beam by plasma focus device to material processing

Z. P. Wang*, H. R. Yousefi, Y. Nishino, H. Ito, K. Masugata

*この論文の責任著者

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フィンガープリント

「Application of ion beam and electron beam by plasma focus device to material processing」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Keyphrases

Physics

Engineering

Material Science