回路線幅2nmノードを突破する半導体リソグラフィー露光プラズマ光源の高効率化

プロジェクトの詳細

研究開始時の研究の概要

(2) プラズマの損失過程・電子温度から,最大効率(目標値:3%)のレーザー照射条件を示す.
ステータス終了
有効開始/終了日2022/04/012025/03/31

資金調達

  • Japan Society for the Promotion of Science: ¥4,160,000

キーワード

  • レーザー生成プラズマ
  • 極端紫外
  • EUV
  • B-EUV (beyond EUV)
  • レーザー生成プラスマ
  • 極端紫外光源
  • beyond EUV (BEUV)