回路線幅2nmノードを突破する半導体リソグラフィー露光プラズマ光源の高効率化

Project Details

Outline of Research at the Start

(2) プラズマの損失過程・電子温度から，最大効率(目標値：3%)のレーザー照射条件を示す．
StatusFinished
Effective start/end date2022/04/01 → 2025/03/31

Funding

  • Japan Society for the Promotion of Science: ¥4,160,000.00

Keywords

  • レーザー生成プラズマ
  • 極端紫外
  • EUV
  • B-EUV (beyond EUV)
  • レーザー生成プラスマ
  • 極端紫外光源
  • beyond EUV (BEUV)

Access Project