Film formation utilizing bi-layer and (111)-slope on Si (001) substrate

  • Saito, Mitsufumi (Principal Investigator)

Project Details

Abstract

本研究では、Si基板上における良質なInSb, AlInSb薄膜の形成を目指した。Si基板上での低消費電力高速論理回路のためのInSb-basedデバイス集積化を将来的な目標とする。Si基板とInSb,AlInSb間の大きな格子不整合の問題を解決するために、1)InSb/Si, AlInSb/Si間にInSb単分子層の導入2)Si(001)基板上に傾斜(111)面の形成、を行うことで、従来の直接成長と比べ、薄く品質の良い薄膜形成が可能である事を示した。
StatusFinished
Effective start/end date2007/01/012008/12/31

Funding

  • Japan Society for the Promotion of Science: ¥2,270,000.00

Keywords

  • ヘテロエピタキシャル成長
  • インジウムアンチモン(InSb)
  • シリコン(Si)
  • MBE
  • InSb
  • Si