Diffusion behavior of sulfur in p(1×1) phase of S/Ni(1 0 0) system

S. Tsukawaki, Y. Hatano, K. Hashizume, M. Sugisaki

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術論文査読

2 被引用数 (Scopus)

抄録

The surface phase diagram of S/Ni(1 0 0) in a temperature region from room temperature to 1100 K has been examined by reflection high energy electron diffraction observation, and the temperature and sulfur coverage regions of the p(1×1) phase have been determined. The temperature dependence of surface diffusion coefficient of sulfur in the p(1×1) phase has been measured with micro-probe Auger electron spectroscopy in a temperature region from 820 to 900 K and in a sulfur coverage region from 0.03 to 0.07 ML. The obtained diffusion coefficient in the p(1×1) phase is expressed as D (cm2/s) = 1.0×10-2 exp(-1.0±0.1 (eV)/kBT).

本文言語英語
ページ(範囲)115-120
ページ数6
ジャーナルSurface Science
476
1-2
DOI
出版ステータス出版済み - 2001/03/20

ASJC Scopus 主題領域

  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 材料化学

フィンガープリント

「Diffusion behavior of sulfur in p(1×1) phase of S/Ni(1 0 0) system」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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