Delocalization of the f electron in CexLa1-xRu 2Si2 - The de Haas-van Alphen effect measurement
Y. Matsumoto*, N. Kimura, T. Komatsubara, H. Aoki, N. Kurita, T. Terashima, S. Uji
*この論文の責任著者
研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 会議記事 › 査読
1
被引用数
(Scopus)