Delocalization of the f electron in CexLa1-xRu 2Si2 - The de Haas-van Alphen effect measurement

Y. Matsumoto*, N. Kimura, T. Komatsubara, H. Aoki, N. Kurita, T. Terashima, S. Uji

*この論文の責任著者

研究成果: ジャーナルへの寄稿会議記事査読

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フィンガープリント

「Delocalization of the f electron in CexLa1-xRu 2Si2 - The de Haas-van Alphen effect measurement」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Keyphrases

Engineering

Earth and Planetary Sciences

Material Science