スパッタリング薄膜の組成均一性に及ぼす原子の放出角度分布の影響

2.本研究テ-マの題名からはやや外れるが,原子の放出角度分布が膜の均一性に影響するという点で本研究テ-マと深く関係する問題,即ち,複合タ-ゲットによる合金膜の組成分布,さらには金属膜の膜厚分布に関しても研究を行った。扇形の複合タ-ゲットのモザイク模様の分割数と組成の均一性の関係を調べ,均一な膜を得るには分割数を16程度以上にする必要があることを示した。金属膜については,放電電圧を変えてアミニウム,銅,モリブデンの膜厚分布を調べた。得られた膜厚分布は,電圧が高くなるに従って垂直方向に放出されやすくなることを示唆するような振舞を示した。