Capturing local structure modulations of photoexcited BiVO4 by ultrafast transient XAFS

Yohei Uemura, Daiki Kido, Akihiro Koide, Yuki Wakisaka, Yasuhiro Niwa, Shunsuke Nozawa, Kohei Ichiyanagi, Ryo Fukaya, Shin Ichi Adachi, Tetsuo Katayama, Tadashi Togashi, Shigeki Owada, Makina Yabashi, Keisuke Hatada, Akihide Iwase, Akihiko Kudo, Satoru Takakusagi, Toshihiko Yokoyama, Kiyotaka Asakura

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術論文査読

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抄録

Ultrafast excitation of photocatalytically active BiVO4 was characterized by femto-and picosecond transient X-ray absorption fine structure spectroscopy. An initial photoexcited state (≪500 fs) changed to a metastable state accompanied by a structural change with a time constant of ∼14 ps. The structural change might stabilize holes on oxygen atoms since the interaction between Bi and O increases.

本文言語英語
ページ(範囲)7314-7317
ページ数4
ジャーナルChemical Communications
53
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DOI
出版ステータス出版済み - 2017

ASJC Scopus 主題領域

  • 触媒
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • セラミックおよび複合材料
  • 化学一般
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 金属および合金
  • 材料化学

フィンガープリント

「Capturing local structure modulations of photoexcited BiVO4 by ultrafast transient XAFS」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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