表面再構成制御法を用いたSi(111)基板上へのIn0.2Ga0.8Sbエピタキシャル成長

五十嵐廉, 森雅之, 前澤宏一

研究成果: 会議への寄与学会発表

本文言語日本
出版ステータス出版済み - 2018
外部発表はい
イベント2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会 -
継続期間: 2018/01/01 → …

学会

学会2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
Period2018/01/01 → …

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