プロジェクトの詳細
研究概要
FFM加工部表面層を透過型電子顕微鏡,顕微レーザラマン分光法などの各種表面分析法により構造分析を行った.その結果,加工表面層は2層構造になっており最表層には結晶性の低い酸化層,その直下に転位生成層が存在することがわかった.これより,FFM加工領域のマスキング効果は,KOH水溶液に耐食性のある結晶性の低い酸化層に起因し,ポリシング面とのエッチングレートの差に起因して生じる.一方,エッチング促進作用はKOHに対して弱い層,すなわち,転位生成層に起因して生じることを明らかにした.さらに,超音波付加によるエッチング処理を行うことによって,エッチング処理後の表面あらさとエッチングむらが改善され,高精細な極微細構造の形成が可能であった.また,FFM加工条件を変化させ実験を行ったところ,垂直荷重および走査線送り量を制御することで,加工部のマスク作用の強さが変化することがわかった.これを利用することによって高さを変化させた3次元極微細構造の作製が可能であった.今後,加工用カンチレバーの高精細化,加工条件の最適化を行うことにより,極微細構造のさらなる高精度化について研究を行う.
ステータス | 終了 |
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有効開始/終了日 | 2001/01/01 → 2002/12/31 |
資金調達
- Japan Society for the Promotion of Science: ¥2,500,000
キーワード
- 摩擦力顕微鏡
- 単結晶シリコン
- アルカリエッチング
- 加工用カンチレバー
- 3次元微細加工
- 極微細構造
- 垂直荷重
- 走査線送り量
- 加工変質層
- マイクロ加工
- カンチレバー
- エッチングマスク
- Friction Force Microscope
- Single Crystal Silicon
- Alkaline Etching
- Cantilever for Machining
- 3D Micro-Fabrication
- Affected layer
- Normal load
- Pitch of processing line